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      氫氣還原爐的性能組成及創(chuàng)新特點(diǎn)

      時(shí)間:2024-07-03 點(diǎn)擊次數(shù):4532
        氫氣還原爐的性能:
        氫氣還原爐的外觀:鋼板外殼,殼外為不銹鋼爐體,方管機(jī)架——滿足爐體高溫運(yùn)行條件下的承重、密封、部件運(yùn)動(dòng)等需求。
        殼內(nèi)為保溫性材料,爐體為耐溫型材料——節(jié)約電能、滿足爐內(nèi)的額定溫度的保溫要求。
        鉬絲組合為氣體保護(hù)下的電熱體——滿足爐內(nèi)燒結(jié)所需溫度。
        180°回轉(zhuǎn)傳送滾輪和8米直行傳送帶——滿足成品運(yùn)送至成品臺(tái)面
        可調(diào)全自動(dòng)PLC和行程開關(guān)控制,多臺(tái)電動(dòng)機(jī)完成執(zhí)行動(dòng)作,觸摸屏顯示全部自動(dòng)控制并可執(zhí)行部分操控——滿足爐體全自動(dòng)運(yùn)行的技術(shù)要求。
        電熱偶、溫控表、調(diào)控調(diào)壓器組合成為可調(diào)動(dòng)控溫系統(tǒng)——滿足爐內(nèi)溫度的可調(diào)自動(dòng)控制。
        自動(dòng)推進(jìn)系統(tǒng)——滿足燒結(jié)過程不停爐、原料自動(dòng)進(jìn)爐,成品自動(dòng)出爐,連續(xù)燒結(jié)的運(yùn)行需求。
       
        以下是氫氣還原爐的主要組成部分:
        爐體:這是還原爐的核心部分,通常由耐高溫材料制成,能夠承受高溫和化學(xué)反應(yīng)的環(huán)境。爐體內(nèi)部設(shè)有加熱元件,用于提供必要的反應(yīng)溫度。
        加熱系統(tǒng):包括加熱元件和溫控系統(tǒng)。加熱元件可以是電阻絲、感應(yīng)線圈等,用于產(chǎn)生高溫。溫控系統(tǒng)則用于監(jiān)控和調(diào)節(jié)爐內(nèi)溫度,確保反應(yīng)在適宜的溫度下進(jìn)行。
        氫氣供應(yīng)系統(tǒng):包括氫氣儲(chǔ)罐、減壓閥、流量計(jì)和管道等,用于向爐內(nèi)提供穩(wěn)定的氫氣流量。氫氣在反應(yīng)中起到還原劑的作用,將金屬氧化物還原為金屬。
        排氣系統(tǒng):用于排出反應(yīng)過程中產(chǎn)生的廢氣,通常包括排氣管道、冷卻器和尾氣處理裝置等。排氣系統(tǒng)需要具備良好的密封性和安全性,以防止氫氣泄漏和爆炸。
        控制系統(tǒng):包括溫度控制器、壓力控制器和流量控制器等,用于監(jiān)控和調(diào)節(jié)還原爐的各項(xiàng)參數(shù),確保反應(yīng)過程的安全和高效。
        安全系統(tǒng):包括各種傳感器和報(bào)警裝置,用于監(jiān)測(cè)爐內(nèi)的溫度、壓力和氣體濃度等,一旦發(fā)現(xiàn)異常情況,能夠及時(shí)報(bào)警并采取應(yīng)急措施。
        冷卻系統(tǒng):用于在反應(yīng)結(jié)束后快速冷卻爐體和產(chǎn)物,防止高溫對(duì)設(shè)備和產(chǎn)物造成損害。冷卻系統(tǒng)通常包括冷卻水循環(huán)系統(tǒng)或風(fēng)冷系統(tǒng)。
      氫氣還原爐
        
        氫氣還原爐創(chuàng)新特點(diǎn):
        全自動(dòng)連續(xù)運(yùn)行幾百~幾千個(gè)小時(shí),連續(xù)工作,節(jié)約電能。
        設(shè)備對(duì)爐內(nèi)提供N2/H2混合氣體保護(hù)。
        高溫區(qū)長(zhǎng)達(dá)4米,zui高溫度可達(dá)到1650℃。
        只需一人操作,即可完成生產(chǎn)全過程。

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